中國半導體大廠屹唐股份指控美國應用材料公司 Applied Materials（AMAT）非法竊取等離子體源及晶圓表面處理核心技術，向北京知識產權法院提出控訴，要求賠償 9,999 萬元人民幣，案件已立案但尚未開庭審理。
屹唐股份 8 月 13 日公告稱，應用材料招聘兩名曾在屹唐全資子公司 Mattson Technology 工作的員工，這些員工在 MTI 任職期間簽署保密協議，卻在入職應用材料後向中國國家知識產權局提交發明專利申請。
該專利申請披露屹唐與 MTI 共同擁有的涉案技術機密，主要發明人正是前述兩名員工。屹唐認為，應用材料透過此方式非法獲取並使用公司等離子體源及晶圓表面處理相關核心技術機密，並在中國境內以申請專利方式披露技術機密，將專利申請權據為己有。
屹唐指出，利用高濃度、穩定均勻的等離子體進行晶圓表面處理是公司關鍵技術之一，相關技術廣泛應用於乾法去膠、乾法蝕刻、表面處理及改性等半導體加工裝置。他們在這方面具備領先原創性技術能力，並擁有相關技術機密。屹唐認為應用材料行為違反《中華人民共和國反不正當競爭法》規定，構成侵犯商業機密的違法行為，對公司知識產權和經濟利益造成嚴重損害。
北京知識產權法院已受理此案，屹唐要求法院判令應用材料停止繼續獲取公司技術機密，並賠償經濟損失以及制止侵權的各項合理支出，適用 3 倍懲罰性賠償，合計 9,999 萬元人民幣。屹唐還要求應用材料銷毀相關產品，並指控對方涉嫌將使用涉案技術機密產品向中國境內客戶推廣銷售，進一步侵害屹唐權益。
屹唐股份是中國唯一同時掌握等離子體與晶圓熱處理國際領先技術的裝置企業。應用材料則為全球半導體裝置巨頭，擁有專利數超過 2.2 萬項。由於屹唐具國家資金背景，此次訴訟意味著中美科技戰蔓延到司法方面。
屹唐表示，本次訴訟不會對公司經營方面產生重大不利影響，也不會影響公司正常生產經營，最終實際影響將取決於法院生效判決結果。
資料來源：路透社
