有報導指，中芯國際正測試上海新創公司宇量昇開發的深紫外線（DUV）光刻機，初步測試結果理想，是中國推動半導體產業自主化過程中的重要突破。
國產 DUV 光刻機技術細節
這款國產 DUV 光刻機採用與荷蘭光刻機巨頭 ASML 系統類似的「浸沒式」技術，主要針對 28nm 製程節點設計。透過多重圖案化技術，該裝置理論上可生產 7nm 級別晶片，甚至能夠製造 5nm 晶片，但良率會相對較低。消息人士透露，這款 DUV 光刻機的主要零件已實現本地化生產，但仍有部分零件需依靠進口。目前宇量昇正致力於完全自主化生產，期望可進一步降低對西方技術的依賴。
宇量昇公司背景
上海宇量昇科技股份有限公司為深圳半導體裝置製造商新凱來的子公司，註冊資本人民幣 10 億元。該公司成立於 2022 年，位於華為半導體生態系統中，專門從事半導體裝置研發及製造，特別專攻光刻機技術。公司控股權由深圳市新凱來技術有限公司及創科微（上海）技術有限公司平分，各持股 50%，並與華為、上海微電子、清華大學等建立技術合作關係。
產業化挑戰與時間表
雖然初期測試結果理想，但新型 DUV 裝置通常需要至少一年持續調校，才能達到量產所需的穩定度與良率。中芯國際計劃在 2026 年將產能提高三倍，但大部分增產仍將使用現有的 ASML DUV 裝置。國產裝置預計最早於 2027 年開始量產，從原型機到量產並與 ASML 競爭仍需數年時間。
戰略意義
這項技術突破被視為中國半導體裝置國產化過程中的重要里程碑。在美國對華科技出口管制不斷升級的背景下，國產 DUV 光刻機成功測試，為中國半導體產業提供更多自主選擇。若能成功量產，將幫助中國突破美國的出口管制，提升先進 AI 晶片產能。
