《路透社》引述消息指，中國近期在深圳高戒備實驗室內，完成一台極紫外光 EUV 光刻機原型，引起半導體業界關注。EUV 光刻機是目前生產高階 AI 晶片與手機處理器最關鍵裝置，一直由荷蘭 ASML 壟斷。這台原型機暫時只能成功產生 EUV 光，尚未能實際量產可用晶片，但已令外界重新評估中國在高階晶片製造領域追趕西方的時間表。
中國版曼哈頓計畫衝破出口限制
中國以中央層面主導這次被形容為「中國版曼哈頓計畫」的項目，目標利用國產裝置生產高階晶片，削弱美國與盟友透過出口管制限制中國晶片能力的影響。ASML 早在 2006 年做出 EUV 原型，直到 2019 年才正式商用；中國則自 2019 年起集中資源，約 6 年就拼湊出能產生 EUV 光的原型，顯示在逆向工程與招攬人才方面取得進展。
逆向工程結合跨品牌組件
報導指深圳實驗室內這台原型機幾乎佔滿一整層工廠，由多名曾在 ASML 工作的華人工程師以逆向工程方式重建 EUV 系統。部分零件疑似來自二手市場舊 ASML 裝置及中介公司轉手購入的受管制部件，並混合 Nikon 與 Canon 等裝置零件，再由本土研究機構配合整合。同時部分 Huawei 研究人員長期駐守園區，被要求使用化名並限制對外聯繫，內部團隊互相隔離以保持項目高度保密。
技術成熟度仍落後 Carl Zeiss
現階段原型機距離真正商用仍有明顯距離。知情人士透露，雖然裝置已能穩定產生 EUV 光束，但在關鍵精密光學系統方面仍落後德國 Carl Zeiss 等西方供應商。整體體積遠比 ASML 商用機龐大，功能亦未能刻蝕出可用電路。中國官方目標是在 2028 年於國產 EUV 上生產高階晶片，惟內部與外部多數評估認為較現實時間點可能要到 2030 年左右，其後還要再用多年時間才有機會追上 ASML 在產能、良率與成本方面的優勢。
地緣政治影響深遠
目前全球只有 ASML 真正商用 EUV 光刻機，每台售價約 2.5 億美元（約港幣 19.5 億元）。這對 TSMC、Intel 及 Samsung 生產 3 奈米級 AI 與手機晶片不可或缺。美國自 2018 年起施壓荷蘭政府禁止向中國出口 EUV，其後連較舊 DUV 機款亦收緊管制。分析認為若中國最終建立起可用甚至量產級國產 EUV，除了會削弱西方出口管制威力，也可能重塑全球晶片供應鏈與價格結構，對台灣、韓國及荷蘭等半導體重鎮帶來深遠影響。然而現時原型機仍未能量產晶片，短期內衝擊主要屬於心理與地緣政治層面。
資料來源：Reuters
